TOKYO, April 5, 2012—Canon Inc. announced today that the company has commenced sales worldwide of the new FPA-6300ES6a scanner, a lithography tool employing a KrF excimer laser*1 light source for the high-volume production of memory, logic and image-processing devices.
Berdasarkan teknologi yang ditanam melalui siri terbukti bidang FPA-6000,Canon baru FPA-6300ES6a mencapai throughput yang tinggi dan tahap tertinggiindustri ketepatan Overlay untuk bertindak balas kepada keperluan majupengeluar cip mencari mengurangkan Kos Pemilikan.
Pengimbas Canon yang baru menggabungkan satu peringkat yang baru yangdireka reticle dan peringkat wafer yang mencapai proses pendedahandipercepatkan untuk kali pendedahan yang ketara dikurangkan. Dengan mengoptimumkan urutan wafer penjajaran dan mengurangkan masapengendalian wafer dan proses lain, FPA-6300ES6a menyedari kadarthroughput yang tinggi lebih daripada 200 wafer sejam, * 2 peningkatan lebih kurang 1.6 kali lebih terdahulu. * 3
FPA-6300ES6a menggunakan teknologi kawalan peringkat yang canggih, skoppenjajaran yang lebih baik dan kawalan suhu yang tepat untuk membuat mungkinketepatan overlay 5 nm, * 4 tahap tertinggi dalam industri. Di samping itu, ia menawarkan NA maju 0,86 unjuran sistem optik dan pelbagai pilihan untuk menyokong peranti pengeluaran yang mendesak dan teguh.
Jumpa Lagi Di Lain Waktu
Assalamualaikum...
FPA-6300ES6a
Di tengah-tengah permintaan yang semakin berkembang untuk komputer, telefon pintar dan peranti elektronik maju yang lain, permintaan untuk semikonduktoryang digunakan dalam produk-produk ini juga telah meningkat, mewujudkankeperluan yang meningkat untuk peralatan yang mampu menyampaikanproduktiviti yang tinggi, ketepatan, kebolehpercayaan dan penggunaan kapasiti.Dalam respons kepada keperluan industri, Canon melancarkan baru FPA6300ES6a, direka untuk pengeluaran besar-besaran DRAM, flash dan memoriperanti lain; logik peranti seperti mikropemproses bagi komputer peribadi; danpenapis warna dan sensor pengimejan yang lain dan alat pemprosesan imej.Berdasarkan teknologi yang ditanam melalui siri terbukti bidang FPA-6000,Canon baru FPA-6300ES6a mencapai throughput yang tinggi dan tahap tertinggiindustri ketepatan Overlay untuk bertindak balas kepada keperluan majupengeluar cip mencari mengurangkan Kos Pemilikan.
Pengimbas Canon yang baru menggabungkan satu peringkat yang baru yangdireka reticle dan peringkat wafer yang mencapai proses pendedahandipercepatkan untuk kali pendedahan yang ketara dikurangkan. Dengan mengoptimumkan urutan wafer penjajaran dan mengurangkan masapengendalian wafer dan proses lain, FPA-6300ES6a menyedari kadarthroughput yang tinggi lebih daripada 200 wafer sejam, * 2 peningkatan lebih kurang 1.6 kali lebih terdahulu. * 3
FPA-6300ES6a menggunakan teknologi kawalan peringkat yang canggih, skoppenjajaran yang lebih baik dan kawalan suhu yang tepat untuk membuat mungkinketepatan overlay 5 nm, * 4 tahap tertinggi dalam industri. Di samping itu, ia menawarkan NA maju 0,86 unjuran sistem optik dan pelbagai pilihan untuk menyokong peranti pengeluaran yang mendesak dan teguh.
- A laser with an exposure wavelength of 248 nm that employs a mixture of the noble gas krypton and the halogen gas fluorine. One nanometer is 1/1000000000 (one one-billionth) of a meter
- 12-inch (300 mm) wafers, 98 shots with High Throughput Option applied
- FPA-6000ES6a, released in 2005
- With Overlay Upgrade option applied. As of March 30, 2012, among KrF scanners (based on Canon research)
Jumpa Lagi Di Lain Waktu
Assalamualaikum...
0 comments:
Post a Comment